芯片制造有新突破 光芯片压印，成本仅DUV的1/10
文 / 风致
2026-06-07 10:42:50
来源:亚汇网
【芯片制造有新突破 光芯片压印，成本仅DUV的1/10】6月5日，璞璘科技发布消息称，公司与深圳力策合作采用真空气压式纳米压印方案实现8英寸光芯片量产突破：依托璞璘科技自主研发的PL-AS真空气压式晶圆级纳米压印光刻设备，配合定制化双层压印胶材料体系与核心工艺，完全绕开深紫外（DUV）光刻路线，成功实现8英寸光芯片晶圆可规模化量产，并将芯片制造成本压缩至传统DUV方案的十分之一。A股中，纳米压印相关概念股主要有苏大维格、美迪凯、利和兴、晶方科技、京华激光、水晶光电等。
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