您正在访问亚汇网香港分站,本站所提供的内容均遵守中华人民共和国香港特别行政区法律法规。

力积电:正与美光合作开发 1P 制程 DRAM 内存,预计 2028H2 量产

文 / 小亚 2026-04-23 00:39:05 来源:亚汇网

亚汇网了解到,1P制程的单位晶圆产出是力积电现有工艺的2.5倍,可为力积电未来利基型DRAM业务的发展打下坚实技术基础。而力积电受美光委托的PWF(后端晶圆制造)业务则预计2026Q3启动设备导入、2026Q4试产、2027Q4量产,目标月产能2万片晶圆。力积电将3DAIFoundry视为重要的未来业务增长点,其高密度电容IPD(整合式被动元件)2.5D中介层已通过国际大厂认证,即将量产;WoW四层晶圆堆叠认证进程顺利,有望2027年小规模量产。该企业已在今年1月上调了12英寸DDI与图像传感器代工价格,涨幅在10%以上;而在今年4月又大幅提升了NAND闪存晶圆代工的投片价格。其有望在年内完成MLCNAND工艺开发,2027H2可供客户设计定案.广告声明:文内含有的对外跳转链接(包括不限于超链接、二维码、口令等形式),用于传递更多信息,节省甄选时间,结果仅供参考,亚汇网所有文章均包含本声明。

相关新闻

加载更多...

排行榜 日排行 | 周排行