阿斯麦 CEO 富凯:首批 High-NA 光刻机生产的芯片将在数月内面世
文 / 小亚
2026-05-19 23:02:07
来源:亚汇网
富凯在比利时微电子研究中心(imec)主办的一场会议上称,这款设备能够降低顶尖芯片的电路光刻成型成本,可同时应用于逻辑芯片与存储芯片领域。这位首席执行官说道:“未来数月内,我们就能看到首批借助高数值孔径光刻机完成光刻制程的产品问世,涵盖存储芯片与逻辑芯片品类。”就在富凯此番表态的数周前,其核心客户广告声明:文内含有的对外跳转链接(包括不限于超链接、二维码、口令等形式),用于传递更多信息,节省甄选时间,结果仅供参考,亚汇网所有文章均包含本声明。


















































