2026-07-15 14:02:34
感谢亚汇网网友双方表示，Intel18A部分工艺层已完成HighNAEUV双重认证，产品良率已达到现有NXEEUV平台水平，并将继续推进该技术在未来制程节点的应用。2024年，英特尔和ASML在位于美国俄勒冈州希尔斯伯勒的研发基地成功完成了业界首台商用HighNAEUV光刻系统的集成工作。英特尔也是第一家安装并通过验收测试的第二代TWINSCANEXE:5200B系统的公司。该系统是在TWINSCANEXE:5000的基础上进行改进，不仅提升了产量和覆盖精度，还优化了光源性能。据亚汇网今年6月报道，针对外界传言台积电现阶段不投入高数值孔径极紫外光（High-NAEUV）设备，广告声明：文内含有的对外跳转链接（包括不限于超链接、二维码、口令等形式），用于传递更多信息，节省甄选时间，结果仅供参考，亚汇网所有文章均包含本声明。
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